具體看，三星將公布的是第二代3nm SF3工藝、第四代4nm SF4X工藝，這兩項(xiàng)技術(shù)對(duì)該公司十分重要，有助于其吸引更多客戶，與臺(tái)積電競(jìng)爭(zhēng)。此前三星的4nm工藝效果不佳，表現(xiàn)遜于臺(tái)積電同代工藝，其制造的Exynos 2200和驍龍8 Gen 1芯片發(fā)熱較大，受到了市場(chǎng)許多批評(píng)。

　　官方表示，三星最新的SF3工藝是此前SF3E工藝的改進(jìn)版本，將采用3nm GAP技術(shù)。這種工藝使用了GAA柵極全環(huán)繞晶體管(英特爾也有類似技術(shù))，三星稱之為MBCFTE場(chǎng)效應(yīng)管。

　　與SF4(4nm EUV LPP)工藝相比，消息稱SF3工藝芯片在相同功率下，運(yùn)行速度提高了22%，或者說在相同頻率以及晶體管數(shù)量的條件下，效率提高了34%，此外芯片面積也縮小了21%。GAA工藝的優(yōu)勢(shì)便是改變納米片通道的寬度，該技術(shù)可以明顯提高晶體管密度。

　　此前有爆料者表示，三星未來的3nm SF3工藝將用于制造Exynos 2500以及高通驍龍8 Gen 4 for Galaxy芯片。

　　而三星的第四代4nm SF4X工藝，有望用于制造服務(wù)器CPU、GPU等，與第二代4nm SF4工藝相比，性能將提升10%，能效有望提升23%。這一工藝將與臺(tái)積電的N4P(第二代4nm)、N4X(第三代4nm)工藝節(jié)點(diǎn)進(jìn)行競(jìng)爭(zhēng)。

　　據(jù)外媒AnandTech消息，三星的SF4X工藝將是該公司近年來第一個(gè)針對(duì)高性能服務(wù)器HPC芯片的工藝節(jié)點(diǎn)，具有重要意義，這也代表著三星或許已經(jīng)有了一些意向客戶。